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台積電爆發2奈米核心製程關鍵技術外洩重大疑案,涉案廠內與離職工程師被依違反《營業秘密法》與《國家安全法》等罪名起訴,今(1)日上午遭移審智慧財產暨商業法院審理羈押事宜,法官裁定三人續押禁見三個月。
據報導指出,離職工程師陳姓男子,曾任台積電12廠良率部門工程師,後加入半導體製造設備供應商東京威力科創(TOKYO威力)行銷部門,為助東京威力搶進台積電2奈米製程供應鏈,多次慫恿現職工程師吳姓與戈姓同事提供高度機密製程資訊,並以手機翻拍「Security B/C」級技術內容,以利廠商改善蝕刻機性能、爭取站點資格。此行為被台積電偵覺,於今年7月8日向高檢署提出告訴,並配合法務部調查局於7月25日至28日進行系列搜索、偵訊與約談行動,聲押三人獲准後偵查終結、提起公訴,求處最高14年徒刑,吳姓、戈姓則分別求處9年與7年有期徒刑。案件今日正式移審智財法院。
法院經接押庭審理後,基於三人供述前後不一致、可能勾串或滅證等情形,裁定繼續羈押禁見三個月,以確保訴訟程序公正與社會公共利益維護。
此案震撼國內半導體業界與國安,不僅是台灣首例涉及2奈米核心技術的內部洩密案件,也突顯台灣國內在全球高端製程時代下,對於技術保安與法制防護的重要挑戰。在此之前,業界已指出本案涉及日系設備供應商東京威力,可能對國內外供應體系構成潛在風險。

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